更多"[单选题]下图是表示哪一种镀膜方法( ) (1 分)"的相关试题:
[单选题]哪种工艺是通过化学的方法镀膜( )。 (1 分)
A.蒸发成膜
B.PVD
C.RTA
D.PECVD
[单选题] 飞机重心位置的表示方法是[1 分]
A.用重心到平均气动力弦前缘的距离和平均气动力弦长之比的百分数来表示
B. 用重心到平均几何弦后缘的距离和平均几何弦长之比的百分数来表示
C. 用重心到机体基准面的距离和平均气动力弦长之比的百分数来表示
[判断题]( )按合金钢的分类表示方法，Q235A中的“235”表示最高屈服强度值。
A.正确
B.错误
[单选题]蒸发镀膜材料不包含( )。 (1 分)
A.Ag
B.Mg
C.有机材料
D.Mo
[单选题]镀膜速率最高的是( )。 (1 分)
A.二极溅射
B.射频溅射
C.三极溅射
D.磁控溅射
[单选题]蒸发镀膜三个步骤为:( )。 (1 分)
A.加热蒸发=〉原子或分子运输=〉沉积
B.原子或分子运输=〉沉积=〉加热蒸发
C.沉积=〉加热蒸发=〉原子或分子运输
D.原子或分子运输=〉加热蒸发=〉沉积
[单选题]蒸发镀膜设备属于下列哪种原理( )。 (1 分)
A.真空离子蒸发
B.磁控溅射
C.MBE分子束外延
D.PLD激光溅射沉积
[单选题]真空镀膜时真空度范围应在( )。 (1 分)
A.低真空
B.中真空
C.高真空
D.超高真空
[单选题]溅射镀膜需要在什么环境下进行( )。 (1 分)
A.低真空
B.高真空
C.中真空
D.标准大气压
[单选题]以下不属于PVD溅射镀膜的是( )。 (1 分)
A.磁控溅射
B.二级溅射
C.射频溅射
D.有机溅射
[单选题]以下不属于PVD镀膜技术的是( )。 (1 分)
A.真空蒸发镀膜..
B.真空溅射镀膜..
C.真空离子镀膜..
D.无机镀膜
[单选题]如下不是蒸发镀膜设备特点的是 。( )。 (1 分)
A.成膜速度快
B.可使用高熔点材料
C.成膜的附着力较弱
D.设备构造较溅射设备简易
[单选题]蒸发镀膜靶材主要以( )形式被蒸发出来 (1 分)
A.原子团或离子形式
B.分子
C.原子
D.粒子
[单选题]利用溅射除了进行镀膜还可以进行什么( )。 (1 分)
A.刻蚀
B.硬化
C.切割
D.降温
[单选题]磁控溅射镀膜时需要充入什么气体( )。 (1 分)
A.二氧化碳
B.空气
C.氩气
D.氢气
[单选题]磁控溅射镀膜最主要的特点是:( )。 (1 分)
A.沉积速率高、基体温升低
B.沉积速率低、基体温升低
C.沉积速率高、基体温升高
D.沉积速率低、基体温升高
[单选题]对PVD溅射镀膜的描述错误的是( )。 (1 分)
A.对于任何待镀材料,只要能做成靶材,就可以实现溅射。
B.溅射所获得的薄膜纯度高,致密性好。
C.相对于真空蒸发,它的沉积速率高。
D.溅射工艺可重复性好
[判断题]
DEM的表示方法分为数学方法和图形方法。（ ）
A.正确
B.错误
