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发布时间:2023-10-03 02:46:53

[单选题]PVD不包含 。( )。 (1 分)
A.蒸发镀膜
B.溅射镀膜
C.电镀
D.离子镀膜

更多"[单选题]PVD不包含 。( )。 (1 分)"的相关试题:

[单选题]PVD设备是指什么( )。 (1 分)
A. 物理气相沉积
B.化学气相沉积
C.物理化学沉积
D.以上都不是
[单选题]PVD制程压力范围为( )。 (1 分)
A.0~1mTorr..
B.1~2mTorr..
C.2~20mTorr..
D.20mTorr~30mTorr
[单选题]如下不属于PVD的是 。( )。 (1 分)
A.蒸发镀膜
B.离子镀膜
C.溅射镀膜
D.低压气相沉积镀膜
[单选题]PVD制程中使用的气体是( )。 (1 分)
A.Ar、N2..
B.H2、N2..
C.Ar、NH3..
D.Ar、CL2
[单选题]PVD设备一般使用的电源是( )。 (1 分)
A.EB电源
B.DC电源
C.AC电源
D.RF电源
[单选题]以下不属于PVD镀膜技术的是( )。 (1 分)
A.真空蒸发镀膜..
B.真空溅射镀膜..
C.真空离子镀膜..
D.无机镀膜
[单选题]以下不属于PVD溅射镀膜的是( )。 (1 分)
A.磁控溅射
B.二级溅射
C.射频溅射
D.有机溅射
[单选题]对PVD溅射镀膜的描述错误的是( )。 (1 分)
A.对于任何待镀材料,只要能做成靶材,就可以实现溅射。
B.溅射所获得的薄膜纯度高,致密性好。
C.相对于真空蒸发,它的沉积速率高。
D.溅射工艺可重复性好
[单选题]PVD过程的三个阶段描述错误的是( )。 (1 分)
A.气相物质的输运..
B.气相物质的产生..
C.气相物质的分解..
D.气相物质的沉积
[单选题]以下不属于PVD工艺中使用的金属是( )。 (1 分)
A.Al
B.Ti
C.Cu
D.Mg
[单选题]下列真空泵哪一种不是PVD设备使用的( )。 (1 分)
A.油泵
B.分子泵
C.低温泵
D.干泵
[多选题]清分结算业务包含( )清分结算和( )清分结算。
A.A.通行交易
B.B.ETC门架交易
C.C.拓展应用交易
D.D.车牌识别交易
[单选题]清分结算业务包含通行交易清分结算和( )结算。
A. ETC 通行交易清分结算
B.退费补交清分
C.拓展应用交易清分结算
D.多省其他交易省际拆分
[多选题]故障报修分类包含()。
A. 高压故障
B. 低压故障
C. 客户外部故障
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[判断题]ODN,即光纤分配网络,包含光分路器、光纤光缆及光缆分线盒、光缆交接箱等一系列无源器件。
A.正确
B.错误
[多选题]市场信息按照分类包含有以下哪些信息?
A.物业信息
B.驻地网信息
C.物业公司信息
D.最终客户信息
E.客户群信息
[多选题]衍生交易产品按风险等级分类包含( )
A. 低风险
B. 中低风险
C. 中等风险
D. 高风险

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