更多"[单选题]以下哪一项不属于爱发科CVD设备( )。 (1 分)"的相关试题:
[单选题]CVD设备需要设置( )。 (1 分)
A.气体感知检测仪
B.废水F回收设备
C.制程气体燃烧式除害设备
D.以上全是
[单选题]CVD设备发生气体泄漏报警时( )。 (1 分)
A.立刻逃离现场
B.先查看泄漏点
C.进行报告联络
D.跟安全部门联络
[单选题]CVD设备按成膜温度可分为( )。 (1 分)
A.高温中温低温
B.高温低温常温
C.高温中温常温
D.中温低温常温
[单选题]CVD设备一般使用的电源是( )。 (1 分)
A.EB电源.
B.DC电源.
C.AC电源
D.RF电源
[单选题]CVD设备用到的清洁气体一般有( )。 (1 分)
A.NF3COF2
B.CF4F2
C.C2F6
D.以上都是
[单选题]CVD设备生产过程中,废弃需要( )经行处理 (1 分)
A.无需处理
B.燃烧式除害设备
C.水处理
D.酸液处理
[单选题]CVD设备构成不包含下列哪一项( )。 (1 分)
A.GASBox
B.Heater
C.Chiller
D.CP
[单选题]CVD设备是通过什么介质成膜的?( )。 (1 分)
A.工艺气体
B.靶材
C.空气
D.二氧化硅
[单选题]CVD蚀刻对应以下哪种气体分析仪( ) (1 分)
A.QuleeCGM
B.QuleeBGM
C.QuleeHGM
D.QuleeRGM
[单选题]目前我公司CVD设备能生产的最大玻璃尺寸为( ) (1 分)
A. 1100x1300mm
B. 1300x1500mm
C. 1500x1850mm
D. 2200x2500mm"
[单选题]以下哪个不是CVD制程气体?( ) (1 分)
A.SiH4
B.H2
C.N2
D.NF3
[单选题]以下哪个是CVD制程气体?( ) (1 分)
A.NF3
B.O2
C.N2
D.Ar
[单选题]以下有用到CVD成膜的是( )。 (1 分)
A.半导体处理器和内存成膜;
B.光学膜和显示器膜
C.记忆媒体和太阳能电池膜
D.以上都是
[单选题]关于CVD设备常用的气体,下列描述正确的是( )。 (1 分)
A.含有无色无味无毒的气体,无窒息危险
B.含有无色无味无毒的气体,但有窒息危险
C.含有易燃易爆及有毒的气体,但不含窒息危险气体
D.含有易燃易爆及有毒的气体,并且含有窒息危险气体
[单选题]以下关于CVD表述不正确的是( )。 (1 分)
A.APCVD阶梯覆盖能力差且易粒子污染
B.LPCVD高纯度阶梯覆盖能力极佳产量高,适合于大规模生产
C.PECVD不会造成化学污染
D.LPCVD高温沉积速率较低
[单选题]以下对CVD的说法正确的是( )。 (1 分)
A.通过化学反应的方式,利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术
B.是物理气相沉淀法的一种
C.通过将靶材气化达到镀膜目的
D.过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率
[单选题]以下属于CVD中使用的特气的( )。 (1 分)
A.SiH4
B.PH3
C.NF3
D.以上全是
[单选题]CVD设备使用干泵时,为何要导入N2至泵内( )。 (1 分)
A.冷却
B.降低泵内成膜
C.提高抽气能力
D.降低噪音
