第8题: [单项选择]有以下程序: #include<stdio.h> union pw { int i; char ch[2]; }a; main( ) { a.ch[0]=13;a.ch[1]=0;printf("%d/n",a.i);} 程序的输出结果是( )。 A. 13 B. 14 C. 208 D. 209 参考答案:A 答案解析:[解析] 在本题中,首先定义了一个共用体pw,其中有两个域:整型变量i和字符数组ch。因为共用体中的域是共享内存空间的,数组元素由低到高存储:ch[0]在低字节;ch[1]在高字节;整型变量i占两个字
第33题: [单项选择]金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度,因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是()。 A. 非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜 B. 贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜 C. 非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜 D. 非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同 E. 理想的氧化膜厚度为0.2~2μm 参考答案:A