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[单项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪种文件是申请布图设计登记应当提交的？（）
A. 权利要求书
B. 说明书
C. 说明书附图
D. 布图设计的复印件或者图样
[单项选择]根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。
A. 甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计
B. 乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制
C. 丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用
D. 丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
[多项选择]布图设计权利人发现侵权人，可采用下列哪种做法？（）
A. 与侵权人协商解决
B. 向人民法院起诉
C. 请求国家知识产权局处理
D. 请求地方知识产权管理部门处理
[单项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，侵犯布图设计专有权，引起纠纷的，布图设计权利人或者利害关系人可以向下列哪一部门请求处理？（）
A. 国务院工商行政管理部门
B. 国务院知识产权行政部门
C. 国务院科学技术行政部门
D. 省级管理专利工作的部门
[单项选择]集成电路布图设计是一种图形设计，它既不受专利法保护，也不受著作权法的保护，在我国，布图设计专有权的管理工作由以下哪个部门来负责（）。
A. 国家知识产权局
B. 工业和信息化部
C. 国家工商行政管理总局
[多项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）
A. 将受保护的布图设计投入商业利用
B. 将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用
C. 对受保护的布图设计的全部进行复制
D. 对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制
[判断题]外观设计专利申请缺少外观设计图片或者照片，专利局不予受理。
[单项选择]在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品时，不知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的行为是（）。
A. 侵权行为
B. 不视为侵权行为
C. 违法行为
D. 犯罪行为
[单项选择]以下哪种管制图为计量值管制图﹕（）
A. 不良品数管制图
B. 单位缺陷数管制图
C. 平均值-极差管制图
D. 不良品率管制图
[单项选择]流度比为20时，以下哪种布井系统的井网波及系数最高？（）
A. 反七点系统
B. 反九点系统
C. 五点系统
D. 直线系统
[单项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，布图设计登记申请人对国家知识产权局驳回其登记申请的决定不服的，可以选择下列哪种救济途径？（）
A. 自收到通知之日起3个月内向国家知识产权局申请行政复议
B. 自收到通知之日起3个月内向国家知识产权局专利复审委员会请求复审
C. 自收到通知之日起3个月内向国家知识产权局专利复审委员会申诉
D. 自收到通知之日起3个月内直接向人民法院提起行政诉讼
[单项选择]以下哪种不是图像文件格式（）
A. BMP
B. JPG
C. GIF
D. mpg
[不定项选择]根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，布图设计登记申请人对国家知识产权局驳回其登记申请的决定不服的，可以如何处理？（）
A. 自收到通知之日起3个月内，向国家知识产权局申请行政复议
B. 自收到通知之日起3个月内，向国家知识产权局申诉
C. 自收到通知之日起3个月内，向国家知识产权局请求复审
D. 自收到通知之日起3个月内，向人民法院提起行政诉讼
[多项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人甲公司可以要求行为人停止下列哪些未经其许可的行为？（）
A. 某大学教授赵某为教学目的而复制甲公司受保护的布图设计
B. 乙公司将自己独立创作的与甲公司受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
C. 丙公司为商业目的复制甲公司受保护的布图设计中具有独创性的部分
D. 丁公司为商业目的销售含有甲公司受保护的布图设计的集成电路
[多项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的，应当提交下列哪些文件或者物品？（）
A. 集成电路布图设计登记申请表
B. 集成电路布图设计的说明书和权利要求书
C. 集成电路布图设计的复制件或者图样
D. 集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品
[单项选择]下列哪种图属于煤矿安全工程图（）
A. 煤层底板等高线图
B. 井下避灾路线图
C. 瓦斯地质图
D. 采掘工程平面图
[多项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）
A. 为个人目的而复制受保护的布图设计
B. 为研究目的而复制受保护的布图设计
C. 在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计
D. 对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
[单项选择]布图设计专有权的保护期为（），自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。
A. 五年
B. 十年
C. 十五年
[单项选择]具有巴西双晶的紫晶出现哪种干涉图（光轴图）？（）
A. 十字状
B. 螺旋状
C. 牛眼状
D. 单臂状
