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[单项选择]初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是
A. 不必处理
B. 腭杆组织面加白凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 去腭杆，让患者戴走
E. 取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是
A. 不做处理，让患者把义齿戴走
B. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 取下腭杆
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是
A. 取下腭杆
B. 腭杆组织面做缓冲
C. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
D. 不做任何处理
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]上颌后腭杆放置的正确位置是
A. 第一、二前磨牙之间，中部微凸向前方
B. 第二前磨牙与第一磨牙之间，中部微凸向前方
C. 第二前磨牙与第一磨牙之间，中部微凸向后方
D. 第一、二磨牙之间，中部微凸向前方
E. 第一、二磨牙之间，中部微凸向后方
[单项选择]后腭杆应位于
A. 上颌侧切牙、尖牙之间
B. 上颌硬区后部第一、第二磨牙之间
C. 上颌硬区第一磨牙之前
D. 下颁第一、第二磨牙之间
E. 上颌第二磨牙以后
[单项选择]后腭杆的正确放置位置应在
A. 硬区之后软腭颤动线之前，两侧微弯向第一磨牙与第二前磨牙之间
B. 硬区之后软腭颤动线之前
C. 硬区之后软腭颤动线之前，两侧微弯向第一磨牙与第二磨牙之间
D. 第一、第二磨牙之间
E. 第一磨牙与第二前磨牙之间
[单项选择]肯氏第一类缺失义齿的后腭杆应
A. 与粘膜密合
B. 离开粘膜0.5～1.0mm
C. 离开粘膜1.5～2.0mm
D. 离开粘膜2.0～2.5mm
E. 离开粘膜3.0～4.0mm
[多项选择]可摘局部义齿初戴困难的常见原因包括( )。
A. 金属附件进入牙体倒凹区
B. 卡体进入倒凹区
C. 卡环过紧
D. 基牙负荷
E. 义齿基托进入倒凹区
[单项选择]女，71岁，初戴全口义齿时发现上颌义齿基托边缘未达到唇颊黏膜转折处，引起的主要不良后果是
A. 唇颊黏膜疼痛
B. 上颌义齿的固位力降低
C. 患者感觉不舒服
D. 上颌义齿翘动
E. 基托外形不美观
[单项选择]男性，75岁。全口义齿初戴后，咬合时上腭部疼痛。查：上颌硬区黏膜红肿。首选的处理方法是
A. 调整咬合
B. 硬腭区重衬
C. 重新制作义齿
D. 基托组织面重衬
E. 基托组织面相应处缓冲
[单项选择]男，75岁。全口义齿初戴后，咬合时腭部疼痛。查：上颌硬区黏膜红肿。首选的处理方法是
A. 调整咬合
B. 硬腭区重衬
C. 重新制作义齿
D. 基托组织面重衬
E. 基托组织面相应处缓冲
[单项选择]男性，75岁。全口义齿初戴后，咬时上腭部疼痛。查：上颌硬区黏膜红肿。首选的处理方法是
A. 调整咬
B. 硬腭区重衬
C. 重新制作义齿
D. 基托组织面重衬
E. 基托组织面相应处缓冲
[单项选择]上颌游离端局部义齿基托后缘应位于
A. 末端人工牙远中
B. 翼上颌切迹前方
C. 翼上颌切迹
D. 上颌结节
E. 腭小凹连线
[单项选择]若设计为支架式可摘局部义齿，初戴时腭杆与黏膜的最合适关系是
A. 轻轻接触
B. 紧密接触
C. 离开0.5mm
D. 离开1.5mm
E. 不能无压力
[单项选择]可摘局部义齿上颌后堤区后缘应在
A. 前颤动线以前
B. 后颤动线以前
C. 腭小凹之前
D. 前后颤动线以前
E. 软硬腭交界处稍后的软腭上
[单项选择]
上颌后牙全部缺失的局部义齿，其腭侧边缘应伸至
A. 翼上颌切迹
B. 翼缘区
C. 后堤区
D. 磨牙后垫的1/3～1/2
E. 软硬腭交界处稍后的软腭上
[单项选择]
上颌尖牙
A. 下牙槽神经+舌神经+颊神经
B. 下牙槽神经+舌神经
C. 上牙槽前神经+鼻腭神经+腭前神经
D. 上牙槽后神经+腭前神经+上牙槽中神经
E. 上牙槽后神经+腭前神经 拔除以下牙时，应麻醉的神经为
